光学玻璃晶体的化学抛光

光学玻璃晶体的化学抛光是利用氢氟酸破坏玻璃表面，使原有的表层硅氧膜破坏，生产新的表面硅氧膜，使得玻璃得到很高的透过率且表面很光洁。目前，平板玻璃的抛光大多用化学抛光和机械抛光相结合的方法，也即化学机械抛光。

采用化学侵蚀抛光玻璃时，除使用氢氟酸外，还要加入能使侵蚀生成物（硅氟化物）溶解的添加物。一般采用硫酸，硫酸具有酸性强，沸点高、不易挥发、室温下比较稳定等特点，故通常将硫酸加入氢氟酸中配成抛光液。另外，因氢氟酸易挥发。侵蚀性强，故需要在密闭条件下进行抛光，同时要对抛光过程中产生的废气、废水进行严格的处理。

影响化学抛光的因素如下：

1、玻璃的成分 一般情况下钠钙硅玻璃抛光比较困难，效果较差，含铅玻璃化学抛光效果较好；

2、抛光液的成分  特别是抛光液中氢氟酸和硫酸的比例构成，要根据玻璃的成分进行调整。一般的铅晶质玻璃配方中：7%~10.5%的氢氟酸和58%~65%的硫酸。对钠钙硅玻璃来说，水、氢氟酸、硫酸的体积比比例为1：（1.62~2）：（2.76~3）。

3、抛光温度 温度过低则反应慢，温度过高反应剧烈，一般以40~50℃为宜。

4、处理时间 处理时间短，抛光作用不完全，处理时间长则玻璃表面会有盐类沉积物，因此具体的抛光时间，应依据抛光液的培比、处理温度等来决定。一般情况下采用短时间多次抛光的方法来处理，每次处理时间在6~15s左右，处理次数不超过10次，若处理次数过多易在表面形成波纹等缺陷，每次酸处理完后都应将玻璃表面用水冲洗以去掉沉淀的盐类。