在光学冷加工和镜头装调过程中,精确地测定透镜或镜组中心厚度、空气间隔对产品成像质量至关重要。以往,人们常采用机械法,如卡尺、百分表、千分表等量具来测定透镜的中心厚度和镜组的空气间隔。但机械法是接触测量,有划伤镜片、增加系统的杂散光的风险。且顶点位置找不准,或千分表测头对零件的压力不同会使得测量结果有较大误差,一般测量精度低于10um。因此,不少工业生产需要高精度的非接触式测量方法和仪器,如非接触式测厚仪、镜面定位仪。 | |
目前,光学加工领域最理想的非接触式测量厚度的方案之一,是在迈克尔逊干涉仪基础上设计的一种非接触式测量厚度的方法和仪器,如图1所示的光学干涉法非接触式测厚仪和镜面定位仪等,可以测量各种透明或半透明材料的厚度,具有无损伤、高精度的特点。 | |
图1 a.光学干涉法非接触式测厚仪 | b.镜面定位仪 |
迈克尔逊干涉仪原理回顾 | |
迈克尔逊干涉仪是最典型的双光束干涉仪,通过入射光分振幅形成双光束而产生干涉。其结构如图2所示,光源S发出光束,入射到分束板上,分别经反射和透射行程强度相等的光束①和光束②,再经过反射镜M1和 M2反射后即可在观察区域形成干涉图样。 | |
图2 迈克尔逊干涉仪原理示意图 | |
干涉仪等效于M1、M2’虚平板,M2’是M2经分束板反射面所成的虚像。通过调节M1、M2的相对位置,改变虚平板的厚度和楔角,可以实现平行平板的等倾干涉,实现楔板的混合型条纹,并且在楔板角度不大、板厚很小的条件下获得等厚干涉条纹。 | |
非接触式测厚仪原理 | |
非接触式测厚仪多采用短相干光源的迈克尔逊干涉仪原理,图3所示,短相干光源发出的短相干光束经过光纤耦合器可分成两束,两束光分别经透镜聚焦到测量臂(Measurement arm)和参考臂(Reference arm)上;在测量臂中,光束经被测镜组各个透镜表面反射,R1和R2为被测透镜前后表面的反射光信号;在参考臂中,光束经扫描反射镜反射,在光纤耦合器中,分别与R1和R2两束光产生干涉,两干涉信号经光电二极管转换为电信号再由显示器显示。 | |
图3 低相干光干涉测量原理 | |
来自被测镜组不同表面的反射信号具有不同的光程,通过调节扫描反射镜位置改变参考光的光程,当参考反射光与被测镜组某一表面反射光的光程差为零时产生干涉极大值信号,随着光程差的增加,相干信号迅速减小。 根据这一原理,通过调节扫描反射镜在光路上的位置,分别调出两干涉信号出现极大值的两个位置,此两极值的位置所对应的扫描反射镜在参考臂上的位置之差,即为待测镜组的光学厚度,其实际厚度为光学厚度除以其折射率。 系统中采用短相干,以获得足够短的相干长度,当相干长度小于待测镜组的光学厚度的2倍时,才能保证反射光束R1和R2相互不发生干涉,达到隔绝第二个表面对干涉条纹的影响的目的。如采用中心波长λ =1310nm,谱宽∆λ =83nm的发光二极管(SLD)光源,其相干长度lc=2ln2×λ²/(π×∆λ) =9um。 | |
非接触式测厚仪&镜面定位仪 | |
联合光科提供了两种测量厚度的理想方案,分别是LensThick测厚仪产品和TRIOPTICS公司设计的OptiSurf® 镜面定位仪。两者均利用光的独特的非接触式、非损伤测量特性,实现精确、可重复、可靠的透镜厚度、空气间隔等数据的测量。 | |
LensThick非接触式测厚仪 LensThick光学非接触式测厚仪,能够精确测量各种透明或半透明材料的厚度。测量时光束从光学探头发出,照射到被测样品,被每一个表面(上表面,底面和中间表面)反射回去的光束再次收集进入光学探头,通过光学干涉仪分析测量结果。这种非常精确的“光尺”测量每一个反射的不同光程即可确定总厚度和每一层的厚度。 | |
表1 LensThick非接触式测厚仪技术参数 | |
⑴ 定义为测量不确定度或最大厚度误差,置信度≥99.7%。⑵ 整个运行环境条件的不确定性。⑶ 60分钟测量周期的标准偏差。⑷ 取决于被测材料在1.3μm波长下的反射率。该规格书是在4%反射条件下给出的。 当反射条件较低时,重复性最坏会降低到约±0.15μm。 | |
图4为使用LensThick非接触式测厚仪测量管壁厚度的测量实例,趋势图可用于生产过程对厚度进行实时监控。 | |
图4 a. LensThick非接触式测厚仪 | b.测量软件界面 |
c. 管壁横截面示意图 | |
TRIOPTICS OptiSurf®LTM中心厚度测量仪 对于光学产品而言,高精度的光学系统需要高质量的单镜片。OptiSurf®LTM镜片厚度测量仪就是德国TRIOPTICS公司为此开发的一款能很好的适用于不同产品的非接触式单镜片中心厚度测量系统。 | |
图5 OptiSurf®LTM中心厚度测量仪 | |
产品主要参数如下: | |
表2 OptiSurf®LTM中心厚度测量仪技术参数 | |
TRIOPTICS OptiSurf®镜面定位仪 TRIOPTICS公司设计的OptiSurf®镜面定位仪是非接触式、高精度测量单镜头、平面关系和光学系统中心厚度与空气间隔的理想工具。基于低相干干涉原理设计,非接触式测量,是光学系统装调中检验和控制空气间隔最理想的工具。 | |
图6 OptiSurf®镜面定位仪 | b.测量软件界面 |
产品基于低相干光源的干涉仪系统,在一定光程范围内通过动镜扫描参考臂并精确测量动镜位移量,当测量臂中被测样品的某表面反射光光程与参考臂中的光程相等时会产生一个干涉极大峰,相邻峰值间的距离即为被测透镜中心厚度或空气间隔。 | |
表3 OptiSurf®镜面定位仪技术参数 | |
激光功率测量仪器基本原理及产品介绍
激光功率是激光器的一个重要参数,决定了其适用的领域和范围。激光器的功率能量计量技术随着科研、工业生产中激光技术的发展而不断的发展。激光,是受激产生的电磁辐射,本质上是一种能量,因此可以根据能量转换原理,将其转换成其他形式的能量(如热能、机械能、化学能和电能)进行测量。因此,也就有了常用的光电型、热电型、光辐射计型、体吸收型和流水式等不同工作方式下的激光功率测量方法。本文主要介绍基于热电堆传感器的热电偶功率计和基于光电二极管传感器的光电功率计测量激光功率的原理,以及一种基于积分球测量原理的高功率测量方法。 | |
激光功率测量基本原理 | |
✦ 热电型激光功率测量原理 | |
热电型激光功率计探头通过核心部件热电堆传感器先将光能转换成热能,再转换为电信号输出以表征激光功率的大小。热电堆传感器由多个串联的热电偶构成,表面涂有热电材料的吸收体,热电材料吸收激光能量并转化成热量,热量向热电偶传递并形成温度梯度场,热电堆探头内外两个节点由于温度差产生温差电动势,每对内外节点产生的温差电动势串联起来的总电压与入射光被膜层吸收转化的热量成比例,最终通过激光功率计表头显示器或应用显示终端得到可读取的激光功率值 | |
图1 热电堆传感器原理示意图 | |
热电堆传感器鉴于其工作原理,有以下特点:易受到周围环境热源的影响,对于低功率测量响应误差较大,更适于高功率激光功率测量,适应从毫瓦到万瓦级的激光功率测量;由于热传递需要时间,热电堆功率计响应时间相对较长,一般在秒或者毫秒量级。 光谱测量范围宽,从紫外到远红外波段均可使用;涂层易损伤。 | |
✦ 光电型激光功率测量原理 | |
光电型激光功率计探头是通过光电二极管,直接将光能转换为电流或者电压信号,以表征激光功率的大小。光电二极管传感器的核心部分是个PN结,如图2所示,光电二极管实际上是加了一个反向偏压的PN结,当反向偏压足够大时,耗尽区本征载流子被完全耗尽;由于缺乏载流子,PN结内无电流通过。当光照射到光电二极管的光敏面上时,电子或空穴摆脱束缚,在PN结内形成光生载流子,并在电场的作用下产生漂移而形成电流,光电流的大小与入射光的能力成比例,通过后续电路放大及转换等处理, 最终显示成可读取的激光功率值。 | |
图2 光电二极管工作原理示意图 | |
光电二极管基于光电效应,因此有以下特点:由于光量子直接转换为电流,光电二极管响应时间快,光灵敏度高;很容易电流饱和,只能测小功率;近红外范围测量材料锗、InGaAs等价格昂贵,因此,传感器尺寸受限;由于材料限制,测量波长受限(UV-NIR波段);与衰减器和积分球结合扩展功率测量范围,增加成本 | |
✦ 积分球光功率测量原理 | |
在高功率激光研究领域,通常需要快速、准确地对激光输出能量进行测量,且由于其极强的输出功率,容易造成材料的熔化损伤及气化损伤,这对高能激光功率的测量提出了很高的要求。积分球弥补了上述热电堆和光电二极管的缺陷。图3所示,积分球的基本结构是一个内部空心的球壳,内部均匀涂布聚合物或者金属涂层,球壁上开一个或多个窗孔作为进光口和放置光接收器的接收口。 | |
图3 积分球工作原理示意图 | |
激光进入积分球内,被内壁涂层多次反射,使光束被均匀散射到整个球面,用快速探测的光电功率计在球壁出口取样,它只接收进入积分球的部分激光功率,接收到的激光发生了以下重要改变:功率密度完全均匀。照射为非偏振光,即使入射辐射为偏振光。传感器上所接受的功率已经被极大削弱。因此,积分球和光电二极管组成的激光功率传感器,它既可以像光电二极管一样反应灵敏,又可以检测相当大的功率。 | |
激光功率测量仪器介绍 | |
联合光科的激光功率测量产品线涵盖了由德国Artifex高端高灵敏度的光电功率计,和GU OPTICS国产化热电偶功率计,实现了功率段和光谱的全覆盖。 | |
✦ Artifex OPM150光电功率计 | |
德国Artifex OPM150光功率计产品光谱范围覆盖190nm到2200nm,有多种不同类型探头,探头口径从3mm到9mm,能够测量低至1nW,配套OD衰减片测量最高1W,配套积分球能够测量最高20W功率,适用于实验室、现场和OEM集成应用。 | |
图4 Artifex OPM150光电功率计 | |
Artifex OPM150光功率计产品主要特点:接口:USB(供电,控制)可测光谱范围:190nm-2200nm,功率测量范围:1nW-20W增益控制:5增益范围,可加载5个单独滤光片曲线软件功能:图表/数字显示模式,平均,数据记录(多种存储格式)免费提供全套软件开发包(GUI应用源代码) ,丰富的配件选择 | |
表1 Artifex OPM150光电功率计参数 | |
了解产品更多参数:光功率计-OPM150了解产品使用方法:[视频]光功率计使用方法(OPM150) | |
✦Artifex激光应用积分球 | |
Artifex Engineering为激光应用提供高品质的镀金和聚合物积分球。在测试高功率激光应用时,积分球配套光电功率计能够提供us级别的快速响应时间。 | |
图5 Artifex a.镀金积分球 | b.聚合物积分球 |
镀金系列积分球设计用于高功率测量,光谱范围从近红外至中红外(NIR-MIR),可根据平均功率要求配备空气制冷和水冷。聚合物积分球由固体材料机加工而成(非喷涂),适用于测量可见光至近红外波段,尺寸从10mm到100mm不等。 | |
表2 Artifex 激光应用积分球参数 | |
了解积分球应用实例:快速可靠的高功率激光测量解决方案 | |
✦ Infinity系列热电偶激光功率计 | |
功率计包含激光收集的探测器和数据处理两部分。GU OPTICS可以提供国产化的彩色液晶Infinity读数表头、热电偶功率探头及不需要连接表头使用的USB和RS232接口激光功率计产品。 | |
热电偶功率探头 | |
GU OPTICS提供国产化IN系列激光功率探头,具有光谱响应范围宽、响应速度快、外形小巧、易安装等优点。 | |
图6 热电偶功率探头 | |
表3 IN系列激光功率探头参数 | |
Infinity读数表头 | |
GU OPTICS 的Infinity读数表头是一款配备了彩色液晶屏幕的显示表头,其将功率探头的信号进行采集、处理并直观的显示出来,既适合手持测量,也适合搭配整机在线测量的应用。 | |
图7 Infinity读数表头 | |
Infinity读数表头是一款通用的表头显示器,DB9接口可与IN系列激光功率计探头连接通讯,实时显示测量结果,具有强大的处理器和内存,并提供长时间曲线图显示。也能再通过USB数据线与电脑连接,同步测试和数据分析。现有中英文版本操作界面。 | |
表4 Infinity读数表头 | |
USB和RS232接口激光功率计 | |
GU OPTICS 的USB、RS232系列激光功率计不需要使用到Infinity读数表头,通过USB/RS232接口直接连接电脑,用户仅需安装测试软件至任意电脑,将探头放置在激光光路中,设置对应波长,打开激光,即可实现加工过程中实时测量监控。 | |
图8 LYNK系列激光功率计 | |
USB、RS232系列激光功率计具有以下特点:响应快(50W探头 0%~95%响应时间仅1.5sec)高损伤阈值 11KW/cm²@40W 1064nm结构紧凑、易于集成优化的热沉设计校正NIST溯源 | |
表5USB和RS232系列激光功率计参数 | |
自动表面光学疵病检测基本原理及产品介绍
光学元件表面质量的评价标准主要有面型偏差、表面粗糙度及表面疵病三个方面。其中,表面疵病在光学元件表面随机分布,对局部位置破坏性强,会对光学系统造成严重影响,因此,光学元件表面疵病的检测非常重要。 | |||
光学表面疵病的产生 | |||
根据国际标准ISO10110-7所述,表面疵病是在光学表面的有效孔径内的局部缺陷,是由于制作流程中或后的不当处理造成的。表面疵病包括擦痕、麻点、斑点、破边等局部加工缺陷。 | |||
a.划痕 | b.麻点 | ||
c.擦痕 | d.破边 | ||
图1 表面缺陷类型 | |||
光学元件的加工目前最常用的是传统的光学冷加工技术,加工流程如图2所示,其核心工艺为精密环形抛光工艺,在研磨、抛光等加工过程中,抛光粉(通常采用ZrO2或CeO2)与表面接触形成的压应力,会产生划痕或者麻点,具体的疵病断裂形貌应由应力场决定,应力的分布取决于抛光粉、研磨材料等的特性。 | |||
图2 光学冷加工流程 | |||
光学表面疵病的危害 | |||
对于相机和望远镜等光学系统中的元件而言,过多的表面疵病会残留微小的灰尘、微生物、抛光粉等杂质,将造成元件被腐蚀、生霉、生雾,影响视场清洁。 对于激光等强光中使用的光学元件,由于机械作用力产生的疵病(划痕、麻点等)会引起激光波前畸变,影响光斑质量;更严重的是,疵病对于入射的强激光进行调制,会导致亚表面损伤,损伤处会进一步对激光场进行调制,形成更严重的损伤;且疵病产生的散射光被系统其他光学元件吸收,从而造成元件的受光不均匀,当达到光学元件材料的损伤阈值时,会损坏光学元件,形成恶性循环,最终可能会导致整个强激光系统的失败。 对于微光成像系统,如夜视探测领域,因表面疵病造成的系统杂散光变多,会使得系统信噪比严重下降,影响系统性能。 除了影响系统的性能外,表面疵病会直接的影响光学产品的外部美观,比如对于手机屏幕、电视屏幕、眼镜片等,从而直接影响到产品的销售。 为了避免不必要的损失,疵病的检测是非常重要的。 | |||
光学表面疵病的检测原理 | |||
表面疵病最传统的、最直接的检测方法是人工目检的方法,即操作人员在暗场照明环境下,利用裸眼或利用放大镜观测光学元件表面,由自身经验判断疵病的等级。人工目检的方法操作性和灵活性强,但容易受人为主观因素的影响,灵敏度较低,也无法量化疵病具体的尺寸,且长时间检测容易使人眼睛疲劳,降低检测效率。整体来说,目视法的检测效率很低,检测精度不稳定。 随着超精密光学技术的发展,球面/非球面光学元件的应用日益广泛,同时超精密光学元件表面疵病检测的要求也越来越高,光学表面疵病自动检测技术也随之发展。 | |||
左. 表面无疵病光路示意图 | 右. 表面有疵病光路示意图 | ||
图3 散射法疵病检测原理图 | |||
目前针对光学元件表面疵病检测一种很常用的原理,是利用表面疵病对光的散射特性,当光学元件表面无疵病时,暗场环境中光学探头无法接收到光学信号,如图3所示。当光学元件表面有疵病时,平行光线照射到疵病会产生散射,有一部分光线进入光学探头内,实现表面疵病的检测。光学元件通过运动平台加持,对光学表面进行分区域检测,成像系统获取小区域图像后,通过运动平台的逐次扫描运动完成整个表面的快速检测,将分区扫描图像经过拼接、识别和评价后得到光学元件表面疵病的统计数据。 | |||
光学表面疵病的检测仪器 | |||
德国DIOPTIC公司ARGOS2光学元件表面质量检测仪,是一种设计用于自动分析透明和反射元件表面缺陷的系统,ARGOS2使用一台线扫描相机结合一个旋转台和高功率LED光源捕捉样品的高分辨率图像,按照ISO 10110-7 标准应用校准图像和处理算法识别和确认光学元件的表面缺陷。能显著减轻质检员费时、费力进行表面缺陷检验的工作,质检员可通过测试结果,给出生产线上的纠正错误,提高测试样品质量。 | |||
▲ ARGOS Fiber Cable QBH端面缺陷检测系统◀ ARGOS 2 光学元件表面疵病检测系统 | |||
图4 ARGOS2光学元件表面质量检测仪 | |||
ARGOS2光学元件表面质量检测仪能够满足不同面型、多种表面疵病检测:平面、球面、非球面、柱面及其他复杂面型疵病检测光学元件内部缺陷(如气泡、杂质)检测光学元件表面缺陷(如划痕、边缘裂缝、镀膜孔)检测玻璃、金属、半导体等光滑表面检测 | |||
a. 麻点 | b. 长划痕 | c. 密集缺陷 | d. 崩边 |
图5 ARGOS2分析典型缺陷类型 | |||
ARGOS2光学元件表面质量检测仪主要参数如表1,除此之外,可根据客户需求增加如下可选项:气流去除灰尘真空电动聚焦轴自动聚焦(圆形元件)2轴依次扫描EDOF(扩展景深)自动上下料 | |||
表1 ARGOS2主要参数 | |||
如何定量分析镜头光学性能?
MTF的理解
光学传递函数(OTF)包括调制传递函数(MTF)和相位传递函数(PTF)两部分,其中MTF代表物像频谱对比度之比,表明各种频率传递情况,PTF代表目标物经过光学系统成像后相位的变化。
对于镜头成像质量影响最大的是镜头的分辨率和对比度,两者是鱼和熊掌的关系,提高其一必将降低其二。分辨率和对比度又是一个不可分割的整体,对于一系列的黑白条纹,真正能够分辨开他们的是对比度。假如将黑线变亮而白线变暗,最终将不能再分清线条的存在。换句话说,如果在一张白纸上画一根白线的话,是根本无法分辨的。因为没有任何的分辨率可言。因此,去除了对比度而单独讨论分辨率是没有意义的。
MTF解释了镜头的分辨率和对比度之间复杂的关系,它直接、定量、客观地表述了光学系统的成像质量,是目前公认的分析镜头解像能力比较科学的方法。如图1所示,为典型镜头的MTF曲线,一个理想的镜头能够将通过它的光线100%的传递过去,但是,理想的镜头是不存在的,对于实际镜头,损耗永远是存在的。当从对比度的角度来衡量这种损耗时,它被称为对比度调制度,当测得不同空间频率上的调制度后(比如0-100lp/mm),便得到了镜头的MTF曲线。
图1 典型镜头的MTF曲线图
MTF曲线在低空间频率处(如5或10lp/mm)的读数代表了该镜头的对比度传递性能;在较高(如40lp/mm)或更高空间频率处的读数代表了镜头的锐度性能,即分辨能力。MTF测量原理
目前像质评价的方法有很多,主要的有星点检验、分辨率测量、阴影法、光学传递函数测量等等。MTF测量法作为评定光学系统成像质量的一种方法,不像目视星点检测和分辨率测量法,测量结果很大程度上取决于观察者的分辨差异,MTF测量法能给出定量的判断;而且,在相同的测试条件下,镜头的MTF可以与设计的MTF或其他仪器测量得到的MTF进行对比,故应用广泛。
光学传递函数的基本理论
MTF的测量是基于传递函数的定义,因此,首先我们先来回顾一下光学传递函数的基本含义。
用一个与位置有关的函数h(x,y)来表示脉冲响应的光强分布,用“*”表示成像过程的卷积操作,则一个理想输入f(x,y)经过光学系统成像后在像面的强度分布g(x,y)可以表示成:
对上式两端分别进行二维傅里叶变换,将空域中的信息转换为频域信息,有
H()
上式中,,H()分别是,的傅里叶变换,是频域中沿两个坐标方向的空间频率。函数H()就是光学传递函数(OTF),反映了光学系统对各个频率的传递量。
OTF是一个包括实数和虚数两部分的复变函数,可以写成
其中,实数部分即为调制传递函数MTF,而指数部分为相位传递函数。
以上关系,可以用图3简化表示:
图2 成像系统输入和输出与光学传递函数的关系
点光源
点扩展函数PSF、线扩展函数LSP、边缘扩展函数ESP是与MTF密切相关的几个重要概念,分别对应测试系统采用点光源、狭缝光源、刃边光源,常用的MTF测试方法也是基于这几个函数之间的关系进行计算。
当测试光源为点光源时,一个理想的点光源可以看成在x和y方向上无限小的物体,其能量分布用二维脉冲函数δ(x,y)表示,理想点光源经过光学系统后,由于衍射的限制,所成的像不再是一个理想的点,而是一个弥散斑,称之为星点像。星点像的光强分布即是光学系统的脉冲响应,也就是点扩散函数PSF(x,y),如图3所示。根据上述光学传递函数的基本理论,点扩散函数PSF的傅里叶变换即为光学传递函数OTF,即
图3 点光源成像过程
狭缝光源
PSF是表征成像系统最有用的特征,也是获取MTF的一种方法,而且一次测试可以同时得到子午和弧矢两个方向的MTF。但在实际应用中,由于点光源提供的能量较弱,而且得到理想的点光源比较困难,进行二维光学传递函数计算较为繁琐,所以很少应用。
常用的方法是利用狭缝像替代星点像,从而获得线扩散函数及其一维方向上的光学传递函数。如图4所示,狭缝光源可以看成是多个不相干的点光源沿y方向排列而成,狭缝光源可以看成y方向为常量,以x为变量的delta函数,可以表示为
图4 狭缝光源
与点光源类似,狭缝光源通过光学系统成像后,亮度是往两侧散开的,其散开情况取决于成像系统的点扩散情况,线光源上的每个点在像平面产生一个PSF,这些线排列的PSF在单一方向叠加形成了线扩展函数LSF(x),即狭缝像的光强分布,
根据系统的线性叠加原理,y为常量的卷积等价于沿x方向的积分,因此,
由傅里叶变换的卷积定理可以得到一维光学传递函数
刃边光源
如果在某些条件下狭缝提供的能量还是不够,那么就需要用到刃边作为光源体,其经过光学系统的二维像光强分布就是边缘扩散函数ESF,可以理解成刃边光源上每条透光带在像的位置产生一个LSF,所有经过唯一的LSF在水平方向互相交叠,累积形成ESF。要从ESF获得MTF,必先对ESF求导得到LSF,
然后由LSF经过傅里叶变换得到MTF。
可以将PSF、LSF、ESF和MTF四者之间的关系用下图概括。
图5 PSF、LSF、ESF和MTF四者之间的关系MTF测量仪光路
下图为典型的MTF测试系统,主要包括光源、基于离轴抛物面反射镜设计的平行光管、目标物(点、狭缝、刃边)、被测系统、大数值孔径的平场复消色差显微镜、CCD及图像处理系统、运动导轨及控制系统等。
图6 典型MTF测试系统图
以点光源为例,点源目标经过被测透镜后形成艾里斑,由于点光源成像后的图像非常小,如果采用CCD直接采集点光源的成像,不利于图像的分析处理,会降低系统的测试精度。因此,在CCD采集图像之前,利用大数值孔径平场复消色差显微物镜将光斑放大汇聚在CCD上。通过图像采集卡将图像传至计算机,形成数字图像。图像处理系统读取图像沿艾里斑直径方向上像素点的灰度值,可以将每行像素点的灰度值数据作为所测得的光通量,用得到的光强分布结果求解光学传递函数。MTF测量仪产品
联合光科可为您提供德国TRIOPTICS GmbH公司设计的Image Master®系列光学传递函数测量仪可测量绝大多数光学元件、光学镜头和光学系统中所提到的参数。以Image Master®HR MTF测量仪为例,Image Master®HR是Image Master®光学传递函数测量仪系列产品中的高端产品。
图6 Image Master® HR系统结构示意图
Image Master® HRMTF测量仪主要结构如图6所示,采用立式结构设计,整体结构紧凑一体化,维护保养方便,特别适于手机镜头、数码相机镜头、车载镜头、CCTV镜头等小口径透镜或镜头小批量、高精度的研发和量产应用。可测量光学参数包括镜头的有效焦距EFL,轴上光学传递函数MTF,轴外光学传递函数MTF,离焦光学传递函数MTF,相位传递函数PTF,畸变,色差,像散,视场角,相对透过率,线扩散函数LSF,主光束角度,相对照度和场曲等。
ImageMaster® HR MTF测量仪主要参数如下:
表1 ImageMaster® HR MTF测量仪参数表
ImageMaster® HR主要参数 | ||
系统配置 | 无限-有限共轭系统 | 有限-有限共轭系统 |
样品焦距/放大倍率范围 | 0.5-100mm(可扩展至150mm) | 0.001-0.5 |
视场角 | ±105°(可扩展至±110°) | ±40°(可扩展至±70°) |
EFL/放大倍率测量精度 | ±0.2% | ±0.001 |
光谱范围 | VIS(450-750nm)、NIR(750-1000nm) | |
最大通光口径 | 45mm | |
MTF测量精度 | ±0.02MTF(轴上)、±0.03MTF(轴外) | |
MTF测量重复性 | 0.01MTF | |
空间频率 | 0-500lp/mm | |
样品承载重量 | 2kg | |
测量方位角 | 360° | |
测量模式 | 全自动 |
根据用户在不同场景的需求,可选配不同的测量模块,也可分为研发型,紧凑型,红外光学测量仪,高精度温控型,工业型,多视场型,VR镜头光学参数测量仪。
肖特(SCHOTT)玻璃
通过优异的疫情防控,中国正在从新冠疫情中快速恢复,随着疫苗接种工作的持续推进,张文宏医生表示:或许明年大家就可以摘下口罩了。新冠疫苗的接种,俨然成了大国竞赛的核心项目。除了疫苗研发难度大,疫苗的储存运输都需要用到一种特殊材质的玻璃——中硼硅玻璃,而全球超过四分之三的中硼硅玻璃疫苗瓶,都来自于一家叫肖特(SCHOTT)的德国公司。
一百多年前,这家公司把“做玻璃”从一种工艺,提升到了科学的高度。当我们期待疫苗能战胜疫情时,这家做特种玻璃的公司,值得我们去了解。说到肖特公司,就不得不提公司的创始人——现代玻璃材料科学之父奥托·肖特。
肖特1851年12月17日出生在德国西部的维滕市,父亲是个传统的玻璃工匠,这样的家庭环境显然对肖特今后的职业生涯产生了重要影响。1870年,19岁的肖特前往亚琛工业大学开始了他的大学生涯。1873年,为了追随在那里任教的工业化学家瓦格纳,肖特转至维尔茨堡大学。但是令肖特失望的是,瓦格纳在维尔茨堡大学的研究偏重理论而非实践,没有自己的实验室,看重实验操作验证的肖特于是便又转到莱比锡大学,很快于1874年6月向莱比锡大学提交了关于玻璃制造的博士论文,莱比锡大学评审委员会认为制作玻璃是一种工艺而不是一门科学,结果不予通过。肖特于1875年1月将论文递交给了耶拿大学评审,耶拿大学评审委员会最终认为肖特的论文合格,同年2月肖特顺利通过答辩,当天即获得了博士证书。 拿到博士头衔的肖特继续从事玻璃研究,并发表了多篇论著。1879年,他给耶拿大学的物理教授恩斯特·阿贝写信,说他最近制得了一种锂成分含量较高的轻质玻璃,可能具有优异的光学性能,想请阿贝帮助检测一下该玻璃的物理性能,并随信寄去了样品。 |
那么肖特为什么要找阿贝教授呢?阿贝当时39岁已经是耶拿大学教授,担任耶拿天文台台长,业界著名的物理学家。阿贝提出的阿贝正弦学说能够大大改善透镜品质,但是当时没有合适的玻璃可以测试这个学说。并且阿贝当时与设在耶拿的蔡司工厂关系密切(1875年阿贝成为蔡司工厂的合伙人)。从主动写信给阿贝教授这件事上,我们不得不佩服肖特的积极进取精神和敏锐的商业嗅觉。
阿贝的检测结果和回信鼓舞了肖特,后来肖特在玻璃熔体中系统地添加了各种当时所能得到的矿物元素,分别试验了磷酸玻璃,硼酸玻璃,硅酸玻璃和硼硅酸玻璃。在这过程中,阿贝提供理论指导,瞄准技术方向,肖特攻克工业化生产的难题。肖特于1882年1月移居耶拿,开始了与蔡司公司的深度合作。1885年7月,肖特、阿贝和蔡司父子在耶拿正式成立肖特及同伴玻璃技术实验室,后来发展为肖特及同伴玻璃厂以及今天的肖特股份公司(SCHOTT AG)。
经过100多年的发展,肖特玻璃被广泛应用于包括生物疫苗的各行各业,在光学行业肖特玻璃更是应用到了激光光学,生物光学,机器视觉,计量光学等各个细分领域。使用肖特玻璃制作的光学元件更是高品质的代名词。联合光科也推出了使用肖特Zerodur,Borofloat材料制作的激光反射镜,具有更宽光谱范围、更大入射角度、更高反射率等特点,使其满足多种激光应用场合需求。
更多关于肖特Zerodur,Borofloat激光反射镜产品信息,请看产品分类激光反射镜
高性能光学成像技术
前文中提到的现代玻璃材料科学之父——奥托·肖特在蔡司面前其实是小辈。1840年代,卡尔·蔡司已经成为有名的透镜制作者,而这一时期肖特还没有出生。1851年出生的肖特和蔡司差着一代人的年纪,他们是如何从忘年交一步步发展成光学领域商业伙伴,这得从老大哥卡尔·蔡司说起。
1816年9月11日,卡尔·蔡司出生于离耶拿不远的魏玛市。1838至1845年间,蔡司辗转于多个城市,边打工边学习,扩充自己在物理、数学和机械方面的知识。1845年他回到耶拿开办了一家机械作坊制作透镜,此即为今天蔡司公司的前身。
蔡司直到1847年才制造出一种只用单片透镜的简易型显微镜,但这批显微镜卖得不太好,毕竟蔡司先生30多岁了,也要买房买车养家养孩子,所以蔡司开始动脑筋研发新产品。1857年蔡司开发的新产品——复合式显微镜 Stand I 型上市,并在图林根工业展览会上获得金奖,被认为是德国最佳的科学仪器。Stand I 型大卖,蔡司也有了资金积累,这个时候蔡司认为要想从产品上继续突破,就要从显微成像的基础科学研究出发,消除诸如球差、像散和视野弯曲等光学缺陷。 早在18世纪,切斯特·穆尔·霍尔(Chester Moor Hall)发现燧石玻璃的色散明显大于冕牌玻璃,使用冕牌玻璃做凸透镜,燧石玻璃做凹透镜,并将两块透镜拼在一起。冕牌和燧石玻璃对不同波长光的折射率比例是不一样的(A、B、C分别对应于红、绿、蓝)。通过选择合适的拼接角度,可以将冕牌玻璃红和蓝两种边缘色散光重新完全会聚在一起,这种复合透镜就能在很大程度上消除色差,这就是早期的消色差透镜技术。 |
图:白光在a燧石玻璃和b冕牌玻璃中的色散情况
图:早期的消色差复合透镜
时间到了1870年代,恩斯特·阿贝教授已经作为合伙人与蔡司一同专注于解决显微成像系统中消除色差和二级光谱问题(复消色差)。根据阿贝博士的理论研究,只有得到两种玻璃,色散不同但相对色散比例(A:B:C)相符时,才能消除“二级光谱”。这一时期蔡司公司已经能够制作出当时最优秀的透镜系统,但是要攻克二级光谱问题(复消色差)的瓶颈在于没有相匹配的光学玻璃材料。
幸运的是,阿贝博士认识肖特,对!就是上文中提到的现代玻璃材料科学之父。肖特的重要突破是率先发明了硼硅酸盐玻璃,发现燧石玻璃中引入硼酸后,蓝紫区光谱收缩,使相对色散比例(A:B:C)与冕牌玻璃匹配,这种新型玻璃的出现铺平了通往高性能显微镜的道路。1886年,蔡司发布了全新的物镜系列——复消色差物镜(apochromatic objective),为现代高性能光学成像奠定了可靠的基础,具有里程碑的意义。
图:蔡司早期LOGO就是一个消色差复合透镜示意图
这种复消色差物镜,在显微应用中有广阔的使用场景,目前能供应高品质长工作距离平场复消色差显微物镜(LWD M Plan Apo)的公司主要是Z家,M家和O家德日系光学企业,但货期较长。联合光科为业内客户准备了2X、10X、20X、50X、100X的长工作距离显微物镜,这些物镜被广泛应用到亮场工业检测、教育科研等领域,最关键的是有现货!有现货!有现货!
只用一个镜头能完成圆柱体外观的快速检测吗?
圆柱形产品的外观检测方案
在工业生产中,产品外观是产品质量的一部分,企业对于产品的外观也极为重视。大多数的产品外观检测可以通过视觉检测的方法实现,如表面缺陷、划痕、脏污等检测,在普通平面产品外观检测中已有较好应用效果。但是有一类产品的外观检测在生产制造或检测过程中一直备受困扰,那便是圆柱表面的外观检测。
常规方案
关于圆柱形产品的外观检测有几种常用的视觉检测方法,通常是采用对圆柱形产品进行顶部平面和侧圆柱曲面检测相结合的方式。顶部平面通常采用在圆柱形产品上方布局一台相机进行平面检测;侧圆柱曲面的检测往往比较复杂,最常用的有两种方法:
一种是固定相机,通过运动机构旋转产品(或者固定产品,运动机构旋转相机),使得相机拍摄不同角度的图片,然后拼接获得360°表面图,这样虽得到质量比较好的图片,便于缺陷的检测,但是需要较长的时间取像,所以无法满足实际生产中快速生产的产品。
图1 旋转圆柱形实现360°成像示意图
另外,也可以在产品周围不同角度放置多个相机(一般3-4个)进行取像,通过图像处理技术对多角度相机采集的图像进行识别、拼接等处理,实现圆柱形产品侧表面的360°成像,此方法也缩短扫描时间,但相机数量的增加使检测机构看起来更加复杂,在生产线安装时也容易与其他结构发生干涉。
图2 多相机实现圆柱产品360°成像示意图
联合光科外表面检测方案及应用案例
针对以上方法存在的缺陷,联合光科可为广大用户提供一种仅需一台相机和镜头便可对圆柱形产品顶面及其周围进行检测的解决方案。
方案的重点在于镜头为特殊开发的360°外侧环视镜头,与图3所示的普通工业镜头的视野角不同,外侧环视镜头视野角如图4所示,向视场中心收缩。
图3 普通工业镜头成像视野示意图
图4 360°外侧环视镜头检测圆柱状产品示意图
通过使用这种特殊的镜头垂直拍摄,只需要一台相机便可在一幅图像中呈现物体的顶面和侧面,所生成的物体图像是物体顶部和侧壁的“展开”图。
联合光科在圆柱产品检测方面有着丰富的检测经验,图5为使用360°外侧环视镜头进行玻璃瓶检测的检测装置和采集到的图像。
图6分别为在电池印刷质量和表面缺陷检测、瓶盖检测、立方体样品检测等方面的应用案例。
图6 360°外侧环视镜头在圆柱、多面体产品检测方面的应用案例 |
相比上述常用的两种检测方案,联合光科提供的方案可以大大简化视觉系统的布局,缩小了设备安装空间,也大大降低了图像处理难度,提高了检测效率。
360°外侧环视镜头产品简介
高光光学品牌(GAOPTICS)自研的360°外侧环视镜头采用全新的光路设计,可以实现镜头的视场角向内收缩,视场范围被局限在一个倒立的圆锥角内,实现了同时拍摄物体顶面和侧面的功能。且工作距离可调,被测物距离镜头越近,放大倍率越小,视野越小。摆放在视场中心的圆柱体,侧面不会被顶面遮挡,镜头可以采集到侧面图像。下图为GAOPTICS自研360°外侧环视镜头实物图。更多详情请点击:360°外侧环视镜头
表1 GAOPTICS自研360°外侧环视镜头主要参数
无限远校正显微物镜
光学显微镜简介 |
光学显微镜是是人们用以观察微小物体和认识微观世界的重要手段和工具,也是人们从事光学精密测量、分析微观组织、观察细微结构、开展微型工艺等必不可少的科学仪器。最简单的光学显微镜包含一个用来放大样品的成像系统和一个照射样品的照明系统。但大多数光学显微镜都要更复杂,在显微镜内部和其物镜目镜里,还包含了很多严格控制尺寸大小的高精度镜头。 |
图1 显微镜光路示意图 |
在使用显微镜时,我们总是希望能得到清晰明亮的图像,这就需要显微镜的各项光学技术参数达到一定的标准,并且要求在使用时,必须根据实际情况来协调各参数的关系。只有这样,才能充分发挥显微镜应有的性能,得到满意的显微成像效果。显微物镜是显微成像系统的重要组成部分,它很大程度上决定了显微镜的放大倍数和分辨率,显微镜和显微物镜主要有以下光学技术参数: |
放大倍率显微镜整体系统的放大倍率为目镜和物镜的放大倍率的乘积,放大倍率通常是以一个数值和“x”表示,如10x、20x、50x等; |
数值孔径NA数值孔径是显微物镜最主要的技术参数,它是一个无量纲量,用来衡量物镜接收角的范围,用以衡量该系统能够收集的光的角度范围。数值孔径NA是透镜与物体之间介质的折射率n和半孔径角θ的正弦之乘积,即 |
NA = n × sinθ |
图2 显微物镜孔径示意图 |
分辨率显微镜的分辨率是指能被显微镜清晰区分的两个物点的最小间距,计算公式为 |
σ = λ / NA |
其中σ为最小分辨距离,λ为光线的波长,NA为物镜的数值孔径。 |
工作距离物镜的工作距离指物镜底面到样品表面的距离。在物镜数值孔径一定的情况下,工作距离短则孔径角大。 |
物镜的基本类型 |
显微物镜是光学显微镜最关键的零件,也是最难设计和装配的零件,物镜是由一系列透镜组装而成,物镜的成像质量直接决定了显微镜系统的性能。在选择合适的物镜时,除了放大倍率、数值孔径等上述提到的技术指标外,了解正确的像差校正也是极为重要的。显微物镜按照像差校正情况不同可以分为消色差物镜、复消色差物镜、平场消色差物镜、平场复消色差物镜等。 |
消色差物镜(Achromatic objective)它是实验室最常用的物镜,外壳上常有“Ach”字样,它针对蓝光(486nm)和红光(656nm)两种波长进行色差校正,同时对546nm波长的光进行球差校正。消色差透镜是单色光应用的最佳选择。 |
复消色差物镜(Apochromatic objective)复消色差物镜外壳上标有“Apo”字样,要求能够在三种波长区域(红色、蓝色和黄色)中校正色差。此外,它们也能够提供二到三种波长的球差校正,而且通常具有较高的数值孔径和较长的工作距离,因此光学结构更为复杂,且通常需要采用特种玻璃或萤石等材料制作。复消色差物镜非常适合用于白光应用中。 |
平场物镜(Plan Objective)消色差/复消色差物镜一般在大放大倍率时,会出现场曲问题,即像场不再是平面而是发生弯曲,平场物镜即在物镜设计时通过对场曲进行校正,提高边缘视场像差,使得曲面场变成平面。平场物镜外壳上标有“Plan”字样。 |
无限远共轭&有限远共轭无限远共轭、有限远共轭指的是显微物镜的物面与像面这两个共轭面而言的。如图3a所示,有限远共轭显微物镜,从样品散射的光被物镜汇聚到一点,然后通过目镜成像;而无限远共轭显微物镜,如图3b所示,离开物镜后孔径的光线会被准直,在成像应用中需要一个镜筒透镜将物镜准直后的光聚焦在传感器上。无限远共轭显微物镜外壳上标有“∞”字样。 |
图3 a有限远共轭物镜 b无限远共轭物镜 |
无限远共轭物镜与有限远共轭物镜相比,优势在于,可以在无限远共轭物镜和镜筒透镜之间插入偏振片、滤波片等,而无需改变光束传播方向。物镜镜筒上印有大部分物镜的规格,用户在使用时可以轻松辨别,以联合光科推出的无限远校正长工作距离显微物镜为例,了解下标识所代表的含义。 |
图4 典型显微物镜规格标识 |
无限远校正长工作距离显微物镜应用 |
无限远校正长工作距离平场复消色差物镜代表当今显微镜生产最高水平,在半导体、电子、冶金等行业中得到越来越广泛的使用,其凭借优异的成像质量,超长的工作距离,大数值孔径等特点,广泛应用于激光微纳加工、激光微束系统、亮场工业检测等多种场合。 |
激光微束操作系统中的应用激光微束操作系统可以在基因工程中实现非接触细胞操作,系统中“光镊”和“光刀”则依靠高质量的显微物镜实现。 |
图5 在激光微束操作系统中的应用 |
飞秒激光微纳加工中的应用飞秒激光微纳加工往往是在极小的空间、极短的时间和极端的物理条件下对物质进行加工的,使用无限共轭长工作距离、复消色差设计的显微物镜可以将激光束聚焦到接近衍射极限,从而获得很高的能量密度,使脉冲中心很小的区域的能力超过烧蚀阈值,实现比焦点还小的特征结构。 |
图6 在飞秒激光微纳加工中的应用 |
工业检测中的应用无限共轭长工作距离显微物镜在工业微观形貌检测上也有广泛应用,图7是在共聚焦显原理的轮廓仪中的应用,可以实现3D形貌的检测和关键尺寸的测量。 |
图7 在工业微观形貌检测中的应用 |
无限远校正长工作距离显微物镜产品简介 |
联合光科技(北京)有限公司推出的2X、5X、10X、20X、50X、100X的长工作距离显微物镜,其光谱波长范围是400-700nm,该物镜采用平场复消色差设计,其可对红光、蓝光和黄光进行校正,具有工作距离长、数值孔径大等特点,这些物镜被广泛应用到亮场工业检测、教育科研等领域。 |
太赫兹技术与太赫兹产品介绍
太赫兹简介 | |
随着研究人员对太赫兹波研究的深入,太赫兹技术也在探索阶段不断前进,取得了诸多成果,同时也吸引了越来越多学者的广泛关注。对于刚刚步入此领域的研究人员,太赫兹波及相关技术还是相对陌生的,本文我们就来探讨太赫兹技术和产品。 | |
太赫兹波 | |
太赫兹波 ( Terahertz Wave,THz 波) ,是电磁波谱上一段比较特殊的频带,通常认为太赫兹波是频率介于0.1 ~10.0 THz之间,波长范围在30um~3mm之间的电磁波。如图1,太赫兹波位于电磁波谱中微波和红外光之间,兼具电子学和红外光子学的特征,有着光电融合的跨界特性。 | |
图1 太赫兹频段示意图 | |
太赫兹波技术及应用 | |
太赫兹频谱区域由于研究理论的不完善,和缺乏高效的太赫兹辐射源、探测器及功能器件,不像微波和红外的研究那样深入和完善。随着太赫兹频谱资源的开发利用,太赫兹波谱技术、太赫兹成像技术、太赫兹通信技术在近几年取得了显著的成就。 | |
太赫兹波谱技术 | |
太赫兹光谱技术能够提供分子的基本结构信息,太赫兹光谱包含了丰富的物理和化学信息,也覆盖了电子材料的低能激励现象、液体分子振动等激励现象。图2为3种常见的太赫兹光谱技术。 | |
图2 (a)经典反射式THz时域光谱系统 | (b)时间分辨的THz光谱系统 |
(c) THz发射光谱系统 | |
太赫兹成像技术 | |
太赫兹成像是利用太赫兹波的高透性、无损性及大多数物质在太赫兹波段都有指纹谱等特性,把成像样品的透射谱或反射谱的信息进行处理、分析,得到样品的太赫兹图像。 | |
太赫兹成像技术包括:太赫兹时域逐点扫描成像、太赫兹实时焦平面成像、太赫兹波计算机辅助层析成像、连续波成像、近场成像等。 | |
图3 (a)THz实时焦平面成像系统 | (b)太赫兹焦平面近场成像 |
(c) 太赫兹连续波成像系统 | |
太赫兹波谱和成像在安全领域、材料研究、医学成像、无损检测等领域具有广泛的应用前景。 | |
图4 (a)太赫兹安检 | (b)太赫兹细胞成像 |
(c)太赫兹无损检测 | |
太赫兹通信技术 | |
太赫兹通信具高宽带通讯,满足越来越高的通信速率的需求;天线小,方向性好;THz散射小,对云层可穿透性高;大气不透明,大气中的水汽对THz波有强烈的吸收等特点。因此,THz通信适用于卫星间星际通信、同温层内空对空通信、短程地面无线局域网、短程安全大气通信等领域。 | |
图5 (a)太赫兹星际通信 | (b)短程地面无线局域网 |
太赫兹光谱仪介绍 | |
本公司可为您提供全光纤太赫兹时域光谱系统,光纤飞秒激光器发出两束飞秒激光,一束作为泵浦光源,另一束作为探测光源;泵浦光经光纤传输到发射天线上,在偏置电压的作用下产生宽带太赫兹波,该太赫兹波经透射或反射等方式携带着测试样品的信息被太赫兹探测器所接收,通过波谱分析技术可以得到样品的折射率、吸收系数、介电常数等物理信息。 | |
太赫兹成像光谱技术原理图 | |
本公司产品为全光纤太赫兹时域光谱系统,光纤飞秒激光器发出两束飞秒激光,一束作为泵浦光源,另一束作为探测光源;泵浦光经光纤传输到发射天线上,在偏置电压的作用下产生宽带太赫兹波,该太赫兹波经透射或反射等方式携带着测试样品的信息被太赫兹探测器所接收,通过波谱分析技术可以得到样品的折射率、吸收系数、介电常数等物理信息。 THz时域光谱系统由主机、光谱系统由探头部分和反射/透射模块组成,其主机内部由光纤飞秒激光器模块、偏压源模块、延迟线模块、锁相放大器模块和电源模块集合而成。需另外配置干燥空气/氮气装置以保证样品测试环境的绝对干燥。 | |
高精度太赫兹时域光谱系统 | |
780000太赫兹时域光谱系统产品为全光纤式设计, 分别在高精度长延迟和快速光谱获取方面具有优势;780000产品可实现5 THz以上光谱宽度以及小于2GHz的光谱分辨能力,适合高精度的光谱测量分析;基于光谱数据,还可同时可获得样品的折射率、吸收系数、消光系数、介电常数等丰富的物理信息,实现样品成分分析和定量测量。 | |
产品特点全光纤系统,更加小巧,便携式设计光谱分辨率低至2GHz超过70dB动态范围支持透射和反射式光谱测量模式, 适用大多数样品测试需求匹配专用样品仓单元,实现干燥环境下的样品测量,排除水蒸气的干扰更加人性化、智能化和灵活功能扩展的上位机软件系统 | |
快速太赫兹时域光谱系统 | |
780001太赫兹时域光谱系统产品为全光纤式设计, 分别在高精度长延迟和快速光谱获取方面具有优势;780001产品可以实现最快60Hz和最宽120ps的扫描,是目前国内已知速度最快的时域光谱产品;基于光谱数据,还可同时可获得样品的折射率、吸收系数、消光系数、介电常数等丰富的物理信息,实现样品成分分析和定量测量。 | |
产品特点全光纤系统设计,产品更加轻便灵活基于自研快速延迟线系统,30Hz快速光谱扫描,国内最佳0.1-3.STHz宽带光谱分析光谱分辨率低至8GHz超过70dB动态范围支持透射和反射式光谱测量模式,适用大多数样品测试需求匹配专用样品仓单元,实现干燥环境下的样品测量,排除水蒸气的干扰更加人性化、智能化和灵活功能扩展的上位机软件系统 | |
太赫兹三维层析成像系统 | |
三维层析成像技术是目前国内外光学领域一个重要的研究方向, 已嵌入到了现代工业与文化创意产业的整个流程,他是获取物体表面形态特征的重要手段,也是真实物体三维数字化的基础。太赫兹三维层析成像技术是较为成熟的三维物体成像与测量技术,是一种太赫兹波谱方式的宽场成像技术,经过特定算法的解算和重构可以实现物体三维切片成像,并且能够精确解析样品表面及内部复杂结构。本公司自主研制的780002太赫兹三维层析成像系统是国内首次实现产品化的飞行时间(FOT)层析成像产品, 可以实现最快60像素/秒的成像速度,成像景深可达9mm以上,纵向分辨率达到±2um;同时,所获取图像每一个像素点都包含了完整的太赫兹波形,因此兼具光谱测量的功能,光谱宽度可达4THz, 真正实现了图谱合一。 | |
产品特点全光纤系统,更加小巧,便携式设计;光谱分辨率低至2GHz;支持透射和反射式光谱测量模式,适用大多数样品测试需求;匹配专用样品仓单元,实现干燥环境下的样品测量,排除水蒸气的干扰;更加人性化、智能化和灵活功能扩展的上位机软件系统。 | |
太赫兹器件介绍 | |
太赫兹波谱和成像技术的发展,离不开太赫兹光学器件的发展,常用的太赫兹光学器件有离轴抛物面反射镜、太赫兹透镜、中空回射器、太赫兹分光镜、太赫兹偏振器等。 联合光科推出了离轴抛物面反射镜、中空回射器、太赫兹透镜等太赫兹光学器件。 | |
离轴抛物面反射镜 | |
离轴抛物面反射镜是太赫兹光谱技术中最常用的太赫兹反射镜,其功能是对太赫兹平行光束反射聚焦,也可逆向使用。参考图2(a) 光路中抛物面反射镜PM作用。 | |
联合光科推出直径25.4mm、50.8mm 6061-T6铝合金基底镀金膜、银膜、铝膜离轴角为90°的离轴抛物面反射镜标准品。其中金膜能够实现对太赫兹波段95%以上的反射率。 | |
图6 离轴抛物面反射镜 | |
中空回射器 | |
中空回射器(又叫中空角锥、背向反射器),其功能是能使出射光与入射光成180°出射,且不受入射角度是否精确垂直的影响。 | |
联合光科推出有效孔径为25.4mm、50.8mm、63.5mm镀有金膜、铝膜的中空回射器,该中空回射器采用了空心减重设计结构,由三瓣互相垂直的K9平面玻璃胶合而成,能有效的减轻重量,从而使其在应用中对周边应用环境要求不苛刻,这样入射光将以较高的精度被反射回去,可减少入射角度的顾虑。 | |
太赫兹透镜 | |
太赫兹透镜在太赫兹系统中主要被用于聚焦、准直,其被广泛应用于太赫兹光谱仪、太赫兹成像系统及其他太赫兹研究等产品或相关领域。对太赫兹波段透过率比较好的材料主要有高分子材料和高阻硅,高分子材料中TPX(聚4-甲基戊烯)对太赫兹的透过性能最好。 | |
联合光科推出了直径为25.4mm、38mm的TPX透镜,其焦距覆盖35mm、50mm、100mm、200mm。 | |
注:部分图片取自网络,如有侵权请联系删除 |
高能激光技术在打标、焊接领域的应用
什么是高能激光 |
自1960年梅曼(Maiman)发明世界第一台红宝石激光器以来,激光技术获得了突飞猛进的发展,在工业、科学研究、国防等方面获得了广泛应用。随着激光功率的提高,其工业应用范围也随之增大。 我们常说的高能激光要满足“三高”——高能、高光束质量、高效率,而且高能激光不仅仅是激光器的输出能量高,还要有相当高的功率。能量是可以用时间来积累的,而激光要能完成零件加工,在需要足够的能量密度的同时还要一定的功率密度。通常认为高能激光器输出的激光平均功率应大于10kW,持续时间达数秒,激光能量在数万焦以上。 网站“联合光科→技术中心→激光”目录下可以查阅关于激光的理论知识,包括激光产生的原理、各类激光器结构、激光锁模技术、激光放大技术等多种激光技术,欢迎访问交流:激光、光谐振腔、光放大、光脉冲。 这里我们不再赘述,重点来聊一聊高能激光的种类和特点,已发展和正在发展的高能激光器包括但不限于表1: |
表1 高能激光种类和特点 |
类型波长优点脉冲钕玻璃激光器1.06μm位于近红外大气窗口,大气传输透过率高;波长短,衍射发散角小;储能装置大,器件效率低;虽能实现高功率,却难以做到高能量和高重复脉冲输出,发射间隔长。二氧化碳激光器10.6μm光束质量高,模式好且稳定,输出功率较大;能量转换效率高,结构简单,工艺成熟由于波长长,为了得到较小的衍射极限角,需要大发射系统。固体激光器Nd:YAG激光器1.06μm,可以选择不同激光介质得到不同的输出波长位于大气窗口内;结构紧凑、刚性好、可靠性高、寿命长;存在的问题是系统热管理和需要电能,对高能激光必须解决能源问题。半导体激光器工作介质不同波长也不同大功率半导体激光器已趋于成熟,商品化的激光器功率已达到数千瓦;光束能量分布均匀,光斑形状可以根据需要任意调节;电光转换效率高,结构紧凑,重量很轻,体积很小,便于现场应用;缺点是光束质量一般,发散度较高。自由电子激光器波长连续可调,覆盖从X光直到微波波段可以根据需要旋转输出波长;输出功率较低,但在理论上能量转换效率高,具有潜在的发展优势;需有高亮度的电子束,需要电能源大。 |
高能激光在焊接领域的应用 |
激光焊接是把激光作为加热源,利用激光的高能量密度这个特点,通过光学系统将激光束聚焦在很小的区域内,在极短的时间内使被焊接处形成一个能量高度集中的热源区,从而使被焊物熔化并形成牢固的焊点和焊缝。激光焊接系统的构成 激光焊接系统一般由激光器、光学系统、激光加工机床、保护气输送系统、控制与检测系统组成。激光器和光学系统是激光焊接系统的核心。 |
图1 激光焊接组成结构示意图 |
激光焊接要求激光器应具有较高的额定输出功率,较宽的功率调节范围,功率缓升缓降能力,工作稳定、可靠以保证焊接质量,可用于焊接的激光器有CO2激光器、YAG激光器、LD泵浦固体激光器和半导体激光器。 光学系统主要用于控制光束质量,包括扩束系统、光束传输系统、聚焦系统。光学系统包含了多种高损伤阈值、高精度的球面镜、非球面镜、平面镜等多种透镜和反射镜。 激光焊接设备中的扩束系统采用的是多倍激光扩束镜,如2.5倍扩束镜,扩束镜通过将主光路输出的激光束进行准直、扩束后,可将原有的输出激光光斑扩大至原来的2.5倍,使光束模式更好; 经过扩束准直后的激光光束先经过导光反射镜,被反射到加工平台,再由聚焦镜片将激光束聚焦到能量最为集中的精细光束,从而瞬间达到理想的能量密度,进行焊接加工。 |
激光焊接发生的反应 激光焊接实质上是非透明材料与激光束相互作用的过程。从宏观的角度上看,整个过程表现为融化、吸收、气化和反射;而微观上看则是一个量子过程。将焊接根据机理进行分类可以分为热传导焊接和激光深熔焊。 |
图2 a.激光热传导焊接 b.激光深熔焊 |
当聚焦后的激光密度小于104~105 W/cm2时为激光热传导焊。当激光辐射到焊接材料上时,一部分激光被焊接材料所吸收并将其转化为热能量,以热传递的形式通过材料,融化焊缝并最终将焊件焊接在一起。热传导焊接的特点在于它的熔深浅和焊接速度慢,只熔化工件表面。 当聚焦后的功率密度大于106~107 W/cm2时称为激光深烙焊。大功率激光会使金属表面受到高热,瞬间产生的高温使材料表面金属发生气化而形成小孔,使得金属表面下形成孔洞,称之为匙孔,由于匙孔的形状呈细长,所以激光会在匙孔内壁发生多次反射,并被吸收,因为使得熔深增加,激光停止后,匙孔周围的溶液回流、冷却后工件便连接在一起。其特点是焊接速度快、深宽比大。 |
高能激光在打标领域的应用 |
激光打标是激光在不同物体表面进行高精度标刻的技术,主要是利用高能量密度的激光照射到物体表面,通过光能导致表层物质发生化学物理变化,或灼烧掉部分物质,使物体表面形成凹槽。激光打标系统的构成 激光打标系统主要有激光器、光束控制系统。 |
图3 激光打标机实物图 |
常见的激光打标机主要分为四种,分别是:紫外打标机、光纤激光打标机、二氧化碳激光打标机和半导体激光打标机。 光束控制系统主要包括激光振镜扫描系统和聚焦系统。激光振镜扫描系统分为X方向扫描系统和Y方向扫描系统,由伺服电机带动固定其上的激光反射镜片运动,每个伺服电机分别由计算机发出数字信号控制,从而控制激光的扫描路径,便能够在物体表面刻画出不同的图案。聚焦系统的作用是将激光束聚焦于一点,主要采用场镜即f-θ镜头,不同的f-θ镜头的焦距不同,打标效果和范围也不一样。 |
图4 激光打标机系统工作原理示意图 |
激光打标发生的反应 激光打标实质也是材料与激光相互作用的过程。这种相互作用的原理主要有“热加工”和“冷加工”两种。 “热加工”的作用效果和激光焊接过程相似,高功率激光束照射在被加工材料表面,材料表面吸收激光能量,在照射区域内产生热激发过程,从而使材料表面温度上升,产生熔融、烧灼、蒸发等现象。 “冷加工”是具有高负荷能量的紫外光子,能够打断材料(特别是有机材料)或周围介质内的化学键,致使材料发生非热过程破坏,打标过程不会产生热损伤副作用,因此,对被加工表面的里层和附近区域不产生加热或热变形等作用。 |
激光光学元件 |
联合光科为广大用户提供了激光光学元件包含激光透镜、激光反射镜、激光窗口片、激光棱镜、激光偏振元件等,因其具有高激光损伤阈值、高透过率/反射率、大入射角度、良好的相位延迟精度等特点可在激光焊接、激光切割、激光打标、激光微加工、教育科研等相关行业、领域有广泛应用,产品详情可访问:激光光学元件。 |